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| ?PVD鍍膜設備是怎樣工作的？ |
| 發(fā)布時間：2024-12-09 瀏覽： 次 |
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?PVD鍍膜設備?的工作原理基于物理氣相沉積(PVD)技術，主要通過以下步驟實現(xiàn)薄膜的沉積： ?真空環(huán)境的創(chuàng)建?：首先，設備需要在高真空環(huán)境下工作，以減少空氣分子對蒸發(fā)或濺射出的膜體分子的碰撞，確保結晶體細密光亮。高真空環(huán)境通過機械泵、羅茨泵和擴散泵或分子泵等設備實現(xiàn)。 ?膜體材料的釋放?：膜體材料(如金屬、合金、化合物等)通過加熱蒸發(fā)或濺射的方式被釋放出來。蒸發(fā)過程是通過電阻加熱或電子束加熱使膜體材料蒸發(fā)成氣態(tài)分子;濺射過程則是利用高能粒子(如氬離子)轟擊靶材，使靶材原子或分子被濺射出來。 ?分子的沉積?：蒸發(fā)或濺射出的膜體分子在真空室內自由飛行，最終沉積在基材表面。在沉積過程中，分子會經(jīng)歷吸附、擴散、凝結等階段，形成一層或多層薄膜。 ?鍍膜完成后的冷卻?：鍍膜完成后，需要對設備進行冷卻，使薄膜在基材上固化。這一過程有助于增強薄膜與基材的結合力，提高薄膜的穩(wěn)定性和耐久性。 本文由真空鍍膜機廠家愛加真空收集整理自網(wǎng)絡，僅供學習和參考! |
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