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鍍膜設備技能需求
1、鍍膜設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的規(guī)劃方式，應契合GB/T6070的規(guī)則。
2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應設備真空丈量規(guī)管，別離丈量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對丈量形成攪擾時，應在丈量口處設備電場屏蔽設備。
3、若是設備運用的主泵為分散泵時，應在泵的進氣口一側(cè)裝設有油蒸捕集阱
4、鍍膜設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板設備。觀察窗應能觀察到堆積源的作業(yè)情況以及其他關鍵部位。
5、離子鍍堆積源的規(guī)劃應盡能夠進步鍍膜過程中的離化率，進步鍍膜資料的利用率，合理匹配堆積源的功率，合理安置堆積源在真空室體的方位。
6、合理安置加熱設備，通常加熱器規(guī)劃規(guī)劃應使被鍍工件溫升均勻共同。
7、工件架應與真空室體絕緣，工件架的規(guī)劃應使工件膜層均勻
8、離子鍍膜設備通常應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有按捺非正常放電設備，保持作業(yè)安穩(wěn)
9、真空室接不一樣電位的各部分間的絕緣電阻值的大小，均按GB/T11164-1999中的4.4.6
1、鍍膜設備環(huán)境溫度：10-30oC
2、鍍膜設備相對濕度：不大于75%
3、鍍膜設備冷卻水進水溫度：不高于25oC
4、鍍膜設備冷卻水質(zhì)：城市自來水或適當質(zhì)量的水
5、鍍膜設備供電電源：380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需求而定)；電壓動搖規(guī)模：342-399V或198-231V；
頻率動搖規(guī)模：49-51Hz.
6、鍍膜設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產(chǎn)品運用說明書中寫明。
7、鍍膜設備周圍環(huán)境整齊，空氣清洗，不該有導致電器及其他金屬件外表腐蝕或?qū)е陆饘匍g導電的塵土或氣體存在。
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