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| 真空離子鍍膜技術(shù)分析 |
| 發(fā)布時(shí)間：2014-09-11 瀏覽： 次 |
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真空離子鍍膜技術(shù)(簡(jiǎn)稱離子鍍)是由美國(guó)Sandin公司的D.M.Mottox開(kāi)發(fā)的將真空蒸發(fā)和真空濺射相結(jié)合的一種新鍍膜技術(shù)。 離子鍍技術(shù)的一個(gè)重要特征是在基片上施加負(fù)偏壓，用來(lái)加速離子，增加調(diào)節(jié)能量。 負(fù)偏壓的供電方式，除傳統(tǒng)的可調(diào)直流偏壓外，近年來(lái)，又引入了高頻脈沖偏壓技術(shù)。脈沖的頻率、幅值、占空比可調(diào)，有單極脈沖，也有雙極脈沖。 這樣可使偏壓和基片溫度參數(shù)分別控制。 在基體上施加偏壓，可產(chǎn)生更大的電場(chǎng)力，使等離子體中部分正離子加速到達(dá)基片上轟擊和沉積。 即利用氣體放電產(chǎn)生等離子體，通過(guò)碰撞電離，除部分工作氣體電離外，使膜材原子也部分電離，同時(shí)在基片上加負(fù)偏壓，可對(duì)工作氣體和膜材的電離離子加速增加能量，且吸引它們到達(dá)基片;一邊轟擊基片，一邊沉積，這對(duì)膜的品質(zhì)、性能均有較大改善。這是離子鍍技術(shù)最突出的特點(diǎn)。 離子鍍與蒸發(fā)鍍、濺射鍍的本質(zhì)區(qū)別是前者在基片上施加負(fù)偏壓，后者在基片上未加負(fù)偏壓。 因此，在前面講述過(guò)的各種蒸發(fā)鍍、濺射鍍技術(shù)中，若能在基片(導(dǎo)電基材)上施加一定幅值的直流或脈沖負(fù)偏壓，便可使其變成蒸發(fā)離子鍍、濺射離子鍍，統(tǒng)稱離子鍍。 本文由愛(ài)加真空(http://www.tptjlxb.cn)收集整理，我公司專業(yè)提供各種進(jìn)口真空鍍膜機(jī)銷(xiāo)售和維修服務(wù)，歡迎來(lái)電洽談! 相關(guān)閱讀 |
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