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1、范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了真空濺射鍍膜設(shè)備的型號(hào)和基本參數(shù)，技術(shù)要求，試驗(yàn)方法，檢驗(yàn)規(guī)則，標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸和貯存等。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于壓力在1*101～5*10-3Pa范圍的真空濺射鍍膜設(shè)備。
2、型號(hào)與基本參數(shù)
2.1 設(shè)備的型號(hào)應(yīng)符合JB/T7673規(guī)定。
2.2設(shè)備的基本參數(shù)應(yīng)符合表1的規(guī)定。
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參數(shù)名稱
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參數(shù)數(shù)值
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A
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B
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極限壓力Pa
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≤5*10-4
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≤5*10-3
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恢復(fù)真空抽氣時(shí)間min
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從大氣壓至7*10-3 Pa ≤20
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從大氣壓至7*10-2 Pa ≤10
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升壓率Pa/h
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≤8*10-1
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≤2.5
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濺射電流變化率
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<正負(fù)5%
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3、技術(shù)要求
3.1設(shè)備正常工作條件
3.1.1溫度：10度-30度
3.1.2相對(duì)濕度：不大于75%
3.1.3冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25度
3.1.4冷卻水質(zhì)量：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?br />
3.1.5供電電源：380V、三相四線制、50Hz，電壓波動(dòng)范圍：361~399V,頻率波動(dòng)范圍：49～51Hz.
3.1.6環(huán)境：室內(nèi)應(yīng)整潔；地面、天花板及設(shè)備周圍墻壁應(yīng)干凈；空氣應(yīng)清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵埃或氣體存在。
3.2結(jié)構(gòu)要求
3.2.1設(shè)備中靜、動(dòng)密封圈的結(jié)構(gòu)形式及尺寸應(yīng)符合GB/T6070和JB/T1090-1092的規(guī)定。
3.2.2真空管道上和鍍膜室靠近排氣口位置上應(yīng)裝真空測(cè)試十分規(guī)管，分別測(cè)量各部位的壓力。
3.2.3如果設(shè)備以油擴(kuò)散泵或油擴(kuò)散噴射泵為主泵，應(yīng)在其進(jìn)氣口一側(cè)安裝油蒸氣捕集阱。
3.2.4鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，對(duì)在鍍膜過程 中發(fā)生射線的設(shè)備，觀察窗上應(yīng)加裝防射線鏡片。
3.3制造質(zhì)量
設(shè)備的制造質(zhì)量要求按GB/T11164-1999中的4.4
3.4安全防護(hù)要求
設(shè)備的安全防護(hù)要求按GB/T11164-1999中的4.5
4、試驗(yàn)方法
4.1極限壓力
4.1.1試驗(yàn)條件
a）鍍膜室內(nèi)為空載（即不放被鍍物品，也不進(jìn)行濺射），不得拆去設(shè)備正常工作時(shí)應(yīng)安裝的濺射源、工件支架等部件；
b）真空測(cè)量規(guī)管應(yīng)裝于鍍膜室靠近排氣口位置上；
c）允許在抽氣過程中用設(shè)備本身配有的加熱或轟擊裝置對(duì)鍍膜室進(jìn)行除氣。
4.2鍍膜室恢復(fù)真空抽氣時(shí)間
4.2.1試驗(yàn)條件
按4.1.1。
4.3升壓率
4.3.1試驗(yàn)條件
按4.1.1
4.3.2試驗(yàn)方法
按GB/T11164-1999中的5.3.2
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