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| 常見的鍍膜工藝有哪些？ |
| 發(fā)布時間：2022-10-09 瀏覽： 次 |
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常見的鍍膜工藝：1、PVD(物理氣象沉淀)工藝：2、CVD(化學法鍍膜) 1、PVD(物理氣象沉淀)工藝：是指在真空條件下，采用物理方法，將材料源表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。 發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等，其中顯示面板用的銦錫靶ITO主要采用真空鍍膜。 2、CVD(化學法鍍膜工藝)技術：該技術是在高溫下依靠化學反應、把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣。 |
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